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技術交流

等離子表面處理——等離子體脈沖CVD

PICVD(等離子體脈沖化學氣相沉積)已經發(fā)展很多年了。主要用于光學涂層。該工藝利用了脈沖微波等離子體，允許在脈沖間隔期間更新處理氣體。典型的脈沖重復率是100s^-1。

PICVD工藝的主要優(yōu)點是：

①具有高分辨率的連續(xù)的折射率分布并能利用摻雜劑氣流的變化進行良好的控制;

②由于大的質量流和高的處理氣體利用率而具有高達幾μm·min^-1的沉積率;

③由于非常純的反應氣體而能獲得高純度沉積物;

④該方法制備的涂層具有極好的光學性能穩(wěn)定性;

⑤基體的低熱負載允許象塑料眼科鏡片這樣的對溫度敏感的材料使用涂層。